傳臺積電2nm節(jié)點PPA提升有限,價格或低于預(yù)期
關(guān)鍵詞: 臺積電 2nm工藝 晶圓價格 芯片研發(fā) 制程性能 PPA改進(jìn)
此前有消息稱,臺積電2nm工藝的晶圓成本估計為每片3萬美元。據(jù)業(yè)內(nèi)人士最新透露,臺積電2nm N2節(jié)點的功率、性能和面積(PPA)改進(jìn)有限,其價格并不會如先前預(yù)期般高昂。
據(jù)微博用戶“Smart Chip Insider”透露,多個2nm芯片組的研發(fā)進(jìn)展順利,預(yù)計將在2026年正式推出。盡管該用戶并未明確指出具體采用臺積電2nm N2制程的公司名稱,但提到2nm晶圓的價格將不會過于昂貴。這一消息對于蘋果、高通、聯(lián)發(fā)科等計劃采用臺積電2nm技術(shù)的廠商來說,無疑是一大利好。
此前,受內(nèi)存價格上漲影響,蘋果、高通、聯(lián)發(fā)科等廠商在支付臺積電高額制程費用之余,還需承擔(dān)更高的內(nèi)存成本。據(jù)悉,蘋果的A20和A20 Pro將率先采用新一代光刻技術(shù)制造,隨后高通的驍龍8 Elite Gen 6和驍龍8 Elite 6 Pro,以及聯(lián)發(fā)科的天璣9600也將跟進(jìn)。
值得注意的是,有傳言稱,由于2nm N2制程的PPA改進(jìn)有限,高通和聯(lián)發(fā)科可能會轉(zhuǎn)向更為先進(jìn)的2nm ‘N2P’節(jié)點,后者相較于2nm N2僅提供5%的性能提升。
關(guān)于2nm N2制程的具體性能表現(xiàn),據(jù)透露,其相較于3nm ‘N3E’制程僅提供15%的性能提升,功耗降低可達(dá)30%。從這些數(shù)據(jù)來看,從3nm ‘N3P’制程升級到2nm N2制程的優(yōu)勢并不顯著,這也印證了此前關(guān)于2nm制程PPA改進(jìn)有限的傳聞。(校對/趙月)